Exposure X7 是一款专注于数字图像后期处理的综合工具,支持 Windows 和 MacOS 双平台。它通过直观的界面设计和智能化的编辑流程,帮助摄影爱好者与专业创作者实现从基础调色到复杂艺术效果的全流程处理。软件深度优化了 Apple Silicon 芯片性能,完美适配 MacOS 12 及以上系统版本,同时提供超过 500 种预设滤镜库满足多样化创作需求。
智能选区工具:新增多边形选择功能,通过绘制轮廓线自动生成精准蒙版,支持标记排除区域优化选区精度
多维度调色系统:集成 HSL 色彩通道调节、曲线工具与色阶平衡,可分离调整高光/阴影色相
高级降噪引擎:支持纹理噪声添加与传感器特性分析,有效恢复过度降噪损失的画面细节
动态工作区:自定义面板布局,快速切换编辑/筛选/导出模式,支持双屏扩展显示优化工作流
胶片模拟库:收录 50+ 经典胶片曲线,包括柯达 Portra 与富士 Pro 系列色彩科学
批量处理能力:同步应用预设到多张照片,自动识别曝光参数差异进行适配性调整
元数据管理:嵌入 GPS 地理标签与版权信息,支持 EXIF/IPTC 标准字段深度编辑
GPU 加速渲染:利用 Metal/OpenCL 技术实现实时效果预览,复杂滤镜处理速度提升 60%
发布日期:2024 年 7 月 30 日
扩展相机支持:新增对以下相机的支持:
佳能(Canon):R50、EOS R6 Mark II、EOS R8
富士(Fujifilm):X-H2、X-T5
尼康(Nikon):Z30、Z fc
奥林巴斯(Olympus):OM-5
松下(Panasonic):DC-S5 MkII、GH6、DC-LX100 II
宾得(Pentax):K-70
索尼(Sony):A6700(ILCE-6700)、Alpha 7C II(ILCE-7CM2)、Alpha 7R V(ILCE-7RM5)、Cyber-Shot DSC-HX95、Cyber-Shot DSC-HX99、ZV-1(DCZ-V1B)
识别 HIF 扩展名:新增对 HIF 文件扩展名的识别和支持。
修复问题:解决了在 MacOS 上进行单个图像编辑时操作失败的问题。
支持 Windows 10/11 64 位及 MacOS 12.0 以上系统。
MacOS 安装需进入「系统偏好设置-隐私与安全性」临时启用「任何来源」选项,安装完成后建议恢复默认安全设置。
Windows 版本需.NET Framework 4.8 运行环境,建议保留 2GB 以上存储空间用于缓存处理。
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